真空加热炉 当前位置：首页 > 泛半导体装备 > 真空加热炉

设备采用电阻丝外加热的方式，内/外控温，结构分为加热部分，真空部分，控制部分，气路部分，水冷部分。以多区精密温控与超纯气氛为核心，在800℃还原环境下，突破高密度装载的氢化还原炉温度均匀性控制技术，实现样机制备及性能验证，为材料处理提供安全、可靠的高品质保障。

应用场景

用于新材料制备和半导体产业中的关键装备，其作用不可替代。它主要在氢气气氛或真空环境下，对材料进行热处理和还原反应，从而改变材料的物理和化学性质。

设备主要参数：